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问题:反应磁控溅射技术堆积氮化锆薄膜。靶材料为2英寸,溅射气体为氩,混响气体为氮气,功率为300W,射频电源已堆积2小时。之后,取出目标,看到标题中描述的场景。这是目标中毒或其他原因,但为什么只需要一半呢?下面钛靶材对溅射靶材料的详细介绍。
原因分析一:可能与引进射频电源有关
原因分析二:这么小的目标,两英寸?平均冷却
原因分析三:这样一个300W功率的小目标能跟得上冷却吗?我怀疑冷却不足以使一半的头发变黑!
原因分析四:没有冷却。太热了
原因分析五:可能与功率过高有关。我直径60的目标功率只能增加到100瓦左右
原因分析六:两小时内供电是否稳定?可能是能量太高,也可能是目标的一侧接触到接地部分
原因分析7:怀疑气密性能,该集团认为
处置定见1:权利要求1)检查气体平均值;2)一侧是否漏气?
处置定见:建议做一个XPS分析,或者做另一个实验。
结论:综合以上分析,造成目标物中毒的主要原因是高温穿越、供电不稳定、煤气平均值和气密性。检查这些能力的主要原因,并逐步清理它们。
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