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溅射靶材的难点及市场空间

2020-06-22

       靶材的性能影响涂层质量,并强调不同的应用性能要求。通常,半导体靶的纯度高,平面显示靶面积大,焊接速度快,多元靶对原材料的成分和组织均匀性有较高的要求。目标原料高纯金属和陶瓷粉末位于目标产业链的高附加值环节,主要依靠日本和美国的进口,而国内少数金属企业或目标企业已经开始突破铝、铜、钼等高纯金属原料和ITO粉末等关键技术。

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       溅射目标的市场空间真的很小吗?钛靶材厂家带你了解一下!

       半导体约占目标应用的10%,显示和磁记录各占30%。不应低估市场。随着对显示器、半导体和其他市场的需求增加,对目标的需求也在增加,个别产品的使用也在增加。据WSTS称,全球目标市场为11美元。 16年内达到360亿美元,17至19年复合增长率为13%,约为98岁。十八年内在全球市场上投入了三十亿元。Anteko预计全球钴和碳酸锂的消费量为12。18年产5吨和288000吨。假设价格中心在18年内为50吨和110000吨,钴和锂的市场总量为94。10亿元,和目标市场差不多。

       溅射目标的市场发展空间仍然相当巨大,只要我们知道市场细节,我们就能抓住机遇。


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